（文/汤普济 编辑/吕栋）

本届进博会，自2020年以来连续六次出席的荷兰光刻机制造商ASML没有参展。据观察者网了解，ASML给出的理由是，缺席的原因是与公司内部全球会议时间冲突。

此前多年，ASML曾通过设备模型、视频、虚拟晶圆厂等方式展示其全景光刻解决方案。虽然今年没有ASML的展台，但国产光刻装备并未缺席。

观察者网在现场发现，国产光刻装备制造商上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）带来了新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800的模型，展示我国前道光刻装备自主研发的阶段性成果。

此次展出的模型采用透明剖视设计，可以直观看到设备内部的光学光路和机电系统布局。上海微电子介绍，该平台适配I-line和KrF两类技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、自动物料传输系统以及对准调平传感系统，均实现全链条自主可控。

光刻机是芯片制造前道工艺中的关键设备，主要作用是将掩模版上的电路图案通过光学系统投影到涂有光刻胶的晶圆上，再经过显影、刻蚀等工序，逐层形成芯片内部的电路结构。

此次展示的两类技术路线中，I-line采用365纳米紫外光源，KrF则采用248纳米准分子激光光源。据上海微电子官网介绍，SSC800系列KrF扫描投影光刻机面向110纳米及以上制程需求，重点服务于高性能计算、高密度存储、微处理器等领域；SSB800系列I-line光刻机则面向280纳米及以上工艺，主要应用于功率半导体、模拟集成电路和MEMS等成熟制程领域。

上海微电子表示，目前其前道干式光刻机关键零部件国产化率已超过90%，多台设备在国内头部逻辑和存储芯片生产线上长期稳定运行，累计支持产线流片超过1000万片，设备有效运行率超过92%。

成立于2002年的上海微电子，是国内前道光刻装备制造的重要企业。公司此次披露，其也是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。除前道光刻设备外，公司业务还覆盖先进封装、平板显示等领域，先进封装光刻机也是其重要产品之一。

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